Der Gerätehersteller technotrans AG mit Hauptsitz im westfälischen Sassenberg stellt ein neues Galvaniksystem für die spezifischen Anforderungen von MEMS und bestimmte Anwendungen bei der Halbleiterproduktion vor: die microform.200. Die Kerntechnologie des Systems basiert auf der neusten Generation von Mikrogalvaniken für die Herstellung von Spritzgießwerkzeugen für optische Datenträger. In Kooperation mit NXP (früher Philips Semiconductor) in Frankreich, wo Ende 2006 bereits das zweite System installiert werden konnte, wurde die Technologie auf die spezifischen Anforderungen des Dickschicht-Kupfer-Prozesses auf Siliziumwafern angepasst. Ergänzend dazu wurde ein vollautomatisches Konditionierungssystem entwickelt, welches die ladungsabhängige Dosierung von Additiven, pH-Regelung und den regelmäßigen Austausch geringer Mengen Prozessflüssigkeit vollautomatisch ermöglicht.
Wesentlicher Vorteil dieses Systems gegenüber den Geräten anderer Anbieter ist, dass es sowohl Entwicklungswerkzeug als auch Produktionssystem ist. Die gesamte Prozessentwicklung für die individuelle Applikation kann auf dem Basisgerät durchgeführt werden. Dafür stehen unterschiedliche Ausstattungs- und Ausbauvarianten und frei programmierbare und veränderbare Prozessprogramme zur Verfügung. Sobald das Programm, die Zusammensetzung der Prozesschemie und die Parameter definiert wurden, kann das System für Pilot- und Serienproduktion genutzt werden. Die Ein-Knopf Bedienung in Verbindung mit dem einfachen modularen Ausbau gewährleisten stabile und reproduzierbare Produktionsergebnisse. Das System kann zur Kapazitätserweiterung mit identischen Galvanikzellen erweitert werden und bei Bedarf alle Zellen an einen großen Tank angeschlossen werden. Dadurch reduziert sich der Aufwand für Wartung auf den Bedarf einer einzelnen Zelle.
Je nach Applikation kann das System mit verschiedenen Stromquellen und Optionen ausgestattet werden. Auch wenn sich neue Anforderungen erst während der Prozessentwicklung herausstellen, können Hardware und Software mittels diverser Standardoptionen erweitert werden. Für effiziente Forschung und Entwicklung ermöglichen die Systeme die Speicherung von bis zu 100 unterschiedlichen Prozess-Programmen. Darüber hinaus wird jeder einzelne Prozess mit allen relevanten Daten inklusive der Parametergrafik gespeichert. Diese Daten können entweder in der internen Datenbank des Gerätes oder in einem externen System gespeichert werden. Neben der Datenbankanbindung kann das System auch für die Prozessentwicklung oder als Leitstand von einem externen PC betrieben und programmiert werden. Falls gewünscht, kann die Bedienung direkt am Gerät sogar auf reine Start-Stop-Pause Funktionen eingeschränkt werden. Das Programmieren oder Änderungen an Programmen, Parametern und Einstellungen ist dann nur vom Leitstand bzw. dem externen PC möglich. Selbstverständlich ist auch Fernwartung über eine Internetverbindung ebenso möglich.
Das Galvaniksystem kann für viele verschiedene Abscheidungsmaterialien eingesetzt werden. Es wird ein sehr schneller Nickelprozess inklusive Chemikalien und Training vor Ort angeboten. Jede Art von Kupferprozess für Pattern-Plating, Full Surface Coating und Via-Hole Plating werden in Kooperation mit bekannten Chemikalienlieferanten angeboten. Andere Prozesse, z. B. mit Gold, Palladium oder Legierungen, sind auch möglich und die notwendigen Anpassungen am System sind zumeist bereits als Standardoptionen erhältlich.
